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发明名称
电流感测元件之修阻结构之制造方法
摘要
本发明之电流感测元件修阻结构系于该电阻层表面先设置第一保护层,再进行修正阻值,而于该电阻层及第一保护层表面设有切割口,将于第一保护层表面覆盖有第二保护层,以将该切割口完全覆盖,可改善有厚膜电阻经雷射修正阻值后再覆盖保护层时,由于电阻体(电阻层及电极层)将大面积接触该保护层,会造成电阻体(电阻层及电极层)之电阻值产生较大之误差,且本发明之第一、第二保护层系使用感光性材质,可进一步利用曝光、显影方式修整该第一、第二保护层之面积范围,而不会与电极层重叠,可更精确地控制该电流感测元件之电阻值。
申请公布号
TWI381402
申请公布日期
2013.01.01
申请号
TW096145555
申请日期
2007.11.30
申请人
颜琼章 新竹市牛埔路247巷8号
发明人
颜琼章
分类号
H01C17/24
主分类号
H01C17/24
代理机构
代理人
主权项
地址
新竹市牛埔路247巷8号
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