基板处理方法及记忆媒体

摘要

基板处理方法，系具有：将形成于基板上之低介电质膜予以蚀刻处理来形成特定图案之程序；及以对于特定的液体可溶化之方式，使结束蚀刻处理后所残存的物质变性之程序；及供给该特定的液体来溶解除去被变性的物质之程序；及接着，将被变性的物质之溶解除去后的低介电质膜的表面予以矽烷化处理之程序；及矽烷化处理后，烘烤基板之程序。