发明名称 非挥发性记忆体的制造方法
摘要 本发明提供一种非挥发性记忆体的制造方法,上述非挥发性记忆体系形成于一基板上,包括于上述基板上形成一下导电层;于上述下导电层上形成一缓冲层,其包含一镍酸镧薄膜;利用一沉积制程,于上述缓冲层上形成一电阻层,其中上述电阻层包含一无掺质之锆酸锶薄膜;对上述电阻层进行一退火制程;于上述电阻层上形成一上导电层。
申请公布号 TWI381489 申请公布日期 2013.01.01
申请号 TW098116364 申请日期 2009.05.18
申请人 华邦电子股份有限公司 台中市大雅区科雅一路8号 发明人 曾俊元;林孟汉;吴明錡
分类号 H01L21/8247;H01L21/822;H01L27/24 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 台中市大雅区科雅一路8号
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