发明名称 基板载置台、具备其之溅镀装置及成膜方法
摘要 一种基板载置台,其系配置于真空容器内,具有载置基板之基板载置面,且具备对于前述基板施加磁场之第1磁场施加机构,前述第1磁场施加机构之内部之磁化方向与前述基板之厚度方向一致。
申请公布号 TWI381472 申请公布日期 2013.01.01
申请号 TW098101436 申请日期 2009.01.15
申请人 爱发科股份有限公司 日本 发明人 菊地幸男;沈国华
分类号 H01L21/67;C23C14/34;H01L43/12 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本