发明名称 Method of making a CIG target by die casting
摘要 A method of making a sputtering target includes providing a backing structure, and forming a die cast copper indium gallium sputtering target material on the backing structure.
申请公布号 US8342229(B1) 申请公布日期 2013.01.01
申请号 US20090588579 申请日期 2009.10.20
申请人 MIASOLE;ZIANI ABDELOUAHAB;JULIANO DANIEL R. 发明人 ZIANI ABDELOUAHAB;JULIANO DANIEL R.
分类号 B22D17/08;B22D19/04 主分类号 B22D17/08
代理机构 代理人
主权项
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