| 摘要 |
<p>본 발명은 광원으로부터 출사된 광속을 피노광 패턴에 따라 변조하고, 포토마스크를 사용하지 않고 직접 묘화 노광하는 노광 장치에 있어서, 자외광에 감도를 갖는 감광성 수지층이 형성된 피노광 기판을 적재하여 주행하는 스테이지와, 파장 300 ㎚ 내지 410 ㎚의 범위 중 적어도 일부의 파장 성분을 포함하는 광을 출사하는 제1 광원과, 상기 제1 광원으로부터 출사된 광속을 원하는 피노광 패턴의 데이터를 기초로 하여 변조하고, 상기 스테이지 상에 위치하는 상기 감광성 수지층 상에 패턴을 결상시키기 위한 제1 조사 광학계와, 파장 450 ㎚ 내지 25000 ㎚의 범위 중 적어도 일부의 파장 성분을 포함하는 광을 출사하는 제2 광원과, 적어도 상기 제1 조사 광학계에서 노광 묘화된 제1 조사 영역을 포함하도록 설정된 제2 조사 영역에 상기 제2 광원으로부터 출사된 광속을 도광하는 제2 조사 광학계를 구비한 마스크리스 노광 장치 및 그 방법 및 배선 기판의 제조 방법이다.</p> |
