| 摘要 |
Изобретение относится к способу структурирования поверхности, т.е. формирования по меньшей мере одной совокупности неоднородностей или структурных элементов (2) с субмикронной высотой Н и по меньшей мере одним микронным или субмикронным характерным поперечным размером W, называемым шириной, на поверхности материала (1), в частности стекла, путем ионного травления пучком ионов, необязательно нейтрализованным, отличающемуся тем, что он включает следующие этапы: предоставление упомянутого материала с толщиной, по меньшей мере равной 100 нм, причем материал является твердым гибридным и содержащим простой или смешанный оксид элемента(ов), причем мольное процентное содержание оксида в материале составляет по меньшей мере 40%, в частности между 40 и 94%; и по меньшей мере одно вещество другой природы, чем элемент или элементы оксида, и являющееся, в частности, металлом, причем мольное процентное содержание веществ(а) в материале составляет от 6 до 50 мол.% и ниже процентного содержания упомянутого оксида, причем по меньшей мере большая часть вещества имеет наибольший характерный размер менее 50 нм, в частности, упомянутый гибридный материал является метастабильным перед упомянутым травлением; необязательный нагрев упомянутого гибридного материала перед упомянутым травлением; структурирование поверхности упомянутого гибридного материала при продолжительности травления менее одного часа на поверхности травления более 1 смдо тех пор, пока не будет сформирована упомянутая совокупность структурных элементов, причем структурирование необязательно сопровождается нагреванием гибридного материала. |
