| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermessung des Abstandes zu einem Werkstück bei einer Laserbearbeitungsanlage, bei der ein Bearbeitungsstrahl, welcher vom Werkstück reflektiert wird, mit einevom Bearbeitungsstrahl ausgekoppelt wird, nach dem Prinzip eines kurzkohärenten Interferometers überlagert und Kontrastwerte der überlagerten Wellenfronten mittels einer Detektoranordnung ausgewertet und daraus eine Abstandsänderung bestimmt wird. Erfindungsgemäß ist dabei vorgesehen, dass für eine Modulation der Laufzeit des Referenzstrahls oder des als Messstrahl dienenden Bearbeitungsstrahls ein Phasenmodulator, Strahlaufweiter oder akustooptische Deflektoren und ein optisches Beugungsgitter in einer Littrow-Konfiguration eingesetzt werden. Die Erfindung sieht weiterhin eine entsprechende Anordnung zur Durchführung des Verfahrens vor. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und der Messanordnung zur Durchführung des Verfahrens können exakte Abstandsmessungen zwischen dem Bearbeitungskopf und der Werkstückoberfläche durchgeführt werden, wobei lediglich der Bearbeitungsstrahl zur Beleuchtung der Oberfläche benötigt wird, was die Komplexität und damit die Kosten für eine derartige Anlage senkt.
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