| 摘要 |
<p>본 발명은 임프린트 장치 및 이를 이용한 임프린트 방법에 관한 것이다. 특히, 피처리체에 나노 패턴을 균일하게 형성할 수 있는 임프린트 장치 및 이를 이용한 임프린트 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트 장치는 피처리체를 안착시켜 위치 이동시키는 지지 유닛과, 패턴이 일면에 형성되는 스탬프를 진공 흡착하여 지지하고, 상기 스탬프의 일면이 상기 피처리체에 균일하게 눌리도록 상기 스탬프의 타면에 가스를 분사하여 밀어주는 템플레이트 유닛을 포함한다. 또한, 본 발명의 일실시예에 따른 임프린트 방법은 패턴이 있는 스탬프를 진공 흡착하는 단계와, 피처리체를 안착시켜 상기 스탬프에 근접되도록 위치 이동시키는 단계와, 상기 스탬프에 가스를 분사하여 상기 스탬프가 상기 피처리체에 밀착되도록 가압하는 단계를 포함한다.</p> |
