| 摘要 |
<p>처리 영역, 기판 지지부, 가스 전달 시스템, 가스 혼합 영역, 면판에 고정되는 어댑터 링을 희망 온도로 가열하도록 배치되는 가열 소자, 및 온도 제어된 배기 시스템을 포함하는 장치가 개시된다. 또한, 비스(테시어리-부틸아미노)실란을 증발시키는 단계, 처리 챔버로 비스(테시어리-부틸아미노)실란과 암모니아를 유동시키는 단계, 어댑터 링과 둘 이상의 차단 플레이트에 의해 형성된 추가의 혼합 영역을 갖는 두 가지 반응물질을 결합시키는 단계, 어댑터 링을 가열하는 단계, 및 가스 분배 플레이트를 통하여 처리 영역으로 비스(테시어리-부틸아미노)실란을 유동시키는 단계를 포함하는 방법 및 장치가 개시된다.</p> |
