| 摘要 |
Ein Waferausrichtungssensor umfasst eine Laserquelle, einen Laserdetektor und eine Auswerteeinrichtung. Die Laserquelle ist ausgebildet, um einen Laserstrahl in einer Richtung eines Wafers in einer Auswerteregion des Waferausrichtungssensors so zu emittieren, dass der Laserstrahl an einer Hauptoberfläche des Wafers reflektiert wird, was zu einem reflektierten Laserstrahl führt. Der Laserdetektor ist ausgebildet, um den reflektierten Laserstrahl zu empfangen, zumindest wenn der Wafer innerhalb eines Toleranzbereichs im Hinblick auf die Ausrichtung des Wafers ist. Die Auswerteeinrichtung ist ausgebildet, um Strahlempfangsinformationen von dem Laserdetektor zu empfangen und Ausrichtungsinformationen basierend auf den Strahlempfangsinformationen zu bestimmen. |
