| 发明名称 | 一种二氧化硅减反射膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤：1)用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面；2）镀膜后的玻璃在100-120℃下烘烤20-30min；3）浸蚀：烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蚀；4）烧结：硫酸浸蚀后的玻璃在200-500℃下烧结。本发明提出的方法所制备的覆有二氧化硅减反射膜的玻璃，其透过率在原有基础上提高了4~5%。制备的减反射硼硅玻璃在250~2500nm范围内均具有显著的增透效果，玻璃透过率由91.4%提高到96.1%，整体提高了4.7%，具有优异的减反射效果。 | ||
| 申请公布号 | CN102838287A | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201210328686.8 | 申请日期 | 2012.09.06 |
| 申请人 | 北京市太阳能研究所集团有限公司 | 发明人 | 王启;谢光明;张英超 |
| 分类号 | C03C17/23(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/23(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王朋飞;张庆敏 |
| 主权项 | 一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤：1)镀膜：用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面；2）烘烤：镀膜后的玻璃在100‑120℃下烘烤20‑30min；3）浸蚀：烘烤后的玻璃在95‑98%重量比例的硫酸中浸蚀；4）烧结：硫酸浸蚀后的玻璃在200‑500℃下烧结。 | ||
| 地址 | 100191 北京市海淀区花园路3号 | ||