| 发明名称 | 光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成。本发明涉及光刻设备和过程，尤其涉及用于印刷超过光刻设备的分辨率极限的目标图案的多重图案化光刻术。公开了一种将经由光刻过程被成像到衬底上的图案分割成多个子图案的方法，其中所述方法包括分割步骤，所述分割步骤配置成考虑在所述子图案中的至少一个和用于光刻过程的光刻设备的光学设定之间的共同优化的要求。器件特性优化技术包括基于衍射标识分析的智能图案选择，可以被集成到多重图案化过程流程中。 | ||
| 申请公布号 | CN102841509A | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201210092983.7 | 申请日期 | 2012.03.31 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 陈洛祁;叶军;陈洪 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/36(2012.01)I;G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 吴敬莲 |
| 主权项 | 一种将经由光刻过程被成像到衬底上的图案分割成多个子图案的方法，其中所述方法包括分割步骤，所述分割步骤配置成考虑在所述子图案中的至少一个和用于光刻过程的光刻设备的光学设定之间的共同优化的要求。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||