发明名称 |
微小构造体及其制造方法 |
摘要 |
在使用复数片透镜或DOE时难以实现高精度的对准。本发明是于内面具有微小构造的微小构造体及其制造方法,其包含:于第1层表面形成第1图案的步骤;于所形成的该第1层表面上使该第1层表面的一部分露出而形成牺牲层的步骤;于该牺牲层表面形成第2图案的步骤;于该牺牲层及该第1层表面的一部分上形成第2层的步骤;以及除去构成该牺牲层的构件的步骤;在于第1层表面形成该第1图案的步骤与于该牺牲层形成该第2图案的步骤中,分别以同一对准标记为基准形成图案。由此能实现高精度的对准。 |
申请公布号 |
CN101268012B |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN200680034265.7 |
申请日期 |
2006.10.02 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
林政俊 |
分类号 |
B81C1/00(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;B81C5/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
任默闻 |
主权项 |
一种微小构造体的制造方法,所述微小构造体在内面所对向的面具有微小构造,其特征在于,所述方法包含:于第1层表面形成第1图案的步骤;于所形成的所述第1层表面上形成牺牲层的步骤;于所述牺牲层表面形成第2图案的步骤;于所述牺牲层及所述第1层表面的一部分上形成第2层的步骤;以及除去构成所述牺牲层的构件的步骤;于所述第1层形成所述第1图案的步骤与于所述牺牲层形成所述第2图案的步骤中,分别以同一对准标记为基准形成图案。 |
地址 |
日本东京都 |