发明名称 形成焊接凸块的方法
摘要 本发明涉及一种形成焊接凸块的方法,用于实现晶圆级芯片封装,包括下列步骤:提供半导体基底;在基底上形成铜材质的重布线焊垫;对重布线焊垫进行表面处理,去除其表面的铜氧化物;在基底和重布线焊垫上形成再钝化层,在需要形成焊接凸块的位置作开口,露出重布线焊垫;用助焊剂清洗出露的重布线焊垫;在开口内的重布线焊垫上形成焊接凸块。通过对重布线焊垫进行表面处理,去除其表面的铜氧化物,然后再形成再钝化层,再钝化层就与铜单质表面贴合,后续的用助焊剂清洗出露的重布线焊垫时,再钝化层与重布线焊垫之间不会产生缝隙,也就不会产生渗镀现象,因而提高了芯片的性能和质量。
申请公布号 CN101964315B 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN200910055365.3 申请日期 2009.07.24
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 佟大明;梅娜
分类号 H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种形成焊接凸块的方法,包括下列步骤:提供半导体基底;在基底上形成铜材质的重布线焊垫;对重布线焊垫进行表面处理,去除其表面的铜氧化物;在基底和重布线焊垫上形成再钝化层,在需要形成焊接凸块的位置作开口,露出重布线焊垫;用助焊剂清洗出露的重布线焊垫;在开口内的重布线焊垫上形成焊接凸块;其中,所述对重布线焊垫进行表面处理,为用惰性气体对重布线焊垫进行表面刻蚀。
地址 201203 上海市张江路18号