发明名称 光斑消减器及包括光斑消减器的投影单元
摘要 本发明涉及一种光斑消减设备,该光斑消减设备包括光学元件(20、120),所述光学元件用于被待处理的相干光束穿过。所述设备还包括:能够造成所述光学元件(20、120)发热的装置(22、123);以及降温元件(26),所述降温元件与所述光学元件(20、120)联接,以便能够对所述光学元件进行降温。控制模块(34、134)被配置为用于控制所述加热装置和降温元件,以在所述光学元件(20、120)中产生热扰动,导致所述光学元件折射率的相对应的变化。所述光学元件为压电晶体,以造成所述压电晶体发热的特定变形模式来激发所述压电晶体。
申请公布号 CN102844697A 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN201180021110.0 申请日期 2011.04.27
申请人 德尔菲技术公司 发明人 H.穆萨
分类号 G02B27/48(2006.01)I 主分类号 G02B27/48(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 陶梅
主权项 一种用于相干光束的光斑消减设备,所述设备包括光学元件(20、120),所述光学元件用于被待处理的相干光束穿过,所述设备的特征在于:能够造成所述光学元件(20、120)被加热的装置(22、123);降温元件(26),所述降温元件与所述光学元件(20、120)联接,以便能够对所述光学元件进行降温;控制模块(34、134),所述控制模块被配置为用于控制所述加热装置和降温元件,以在所述光学元件(20、120)中产生随机或伪随机的热扰动,从而导致所述光学元件的折射率的相对应的变化,并且在所述设备中,所述光学元件为压电晶体;所述加热装置包括施加在所述晶体(120)上的电极(123),所述电极与所述控制模块(134)连接,以激发造成所述晶体被加热的晶体振动模式。
地址 美国密执安州