| 发明名称 | 电子材料的清洗方法和清洗系统 | ||
| 摘要 | 一种电子材料清洗系统具备试剂清洗设备(1)、湿式清洗设备(2)和单片式清洗装置(3)。试剂清洗设备(1)具有功能性试剂蓄存槽(6)和介由浓硫酸电解管道(7)与该功能性试剂蓄存槽(6)连接的电解反应装置(8)。该功能性试剂蓄存槽(6)介由功能性试剂供给管道(10)可将功能性试剂(W1)供给于单片式清洗装置(3)。湿式清洗设备(2)具备纯水的供给管道(21)、与氮气源连通的氮气供给管道(22)、以及这些纯水供给管道(21)和氮气供给管道(22)分别连接于其上的内部混合型二流体喷嘴(23)。从二流体喷嘴(23)的前端可喷射由氮气和超纯水形成的液滴(W2)。根据所述电子材料清洗系统，可以缩短电子材料的抗蚀剂的剥离处理所需的时间，进而通过抗蚀剂剥离后的湿式清洗，可以在短时间内确实地除去抗蚀剂残渣。 | ||
| 申请公布号 | CN102844845A | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201180013890.4 | 申请日期 | 2011.03.02 |
| 申请人 | 栗田工业株式会社 | 发明人 | 山川晴义;床嶋裕人 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 崔香丹;张永康 |
| 主权项 | 一种电子材料的清洗方法，其特征在于，具有：试剂清洗工序，该试剂清洗工序使电解硫酸所得到的功能性试剂接触电子材料；和湿式清洗工序，该湿式清洗工序使由气体和液体形成的液滴的射流接触所述电子材料。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||