发明名称 |
硅片处理装置及其处理方法 |
摘要 |
本发明揭露一种硅片处理装置及其处理方法,用以对硅片进行预对准及边缘曝光。硅片处理装置沿光路包括光源和光学镜头。光学镜头包括滤波片单元,滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片,预对准用滤波片通过预对准波段的光,曝光用滤波片通过曝光波段的光,预对准用滤波片和曝光用滤波片之一置于工作状态。本发明提出的硅片处理装置,硅片边缘曝光及预对准使用同一光源和同一光学镜头、传感器及硅片旋转台,提高了能量利用率,降低了整套系统的成本,同时也提高了整套系统的可靠性和紧凑性。 |
申请公布号 |
CN102842485A |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN201110172219.6 |
申请日期 |
2011.06.23 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
李中秋;徐兵;李志丹 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种硅片处理装置,用以对硅片进行预对准及边缘曝光,其特征是,所述硅片处理装置沿光路包括:光源;以及光学镜头,包括滤波片单元,所述滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片,所述预对准用滤波片通过预对准波段的光,所述曝光用滤波片通过曝光波段的光,所述预对准用滤波片和所述曝光用滤波片之一置于工作状态。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张东路1525号 |