发明名称 基于单元结构的体纹理合成方法
摘要 本发明涉及数字图像处理技术领域。公开了一种基于单元结构的体纹理合成方法,包括以下步骤:S1、分析二维纹理图像,得到三维单元结构的二维截面,使用空间中三个垂直方向的二维截面来构造多个三维单元结构;S2、分析所述二维纹理图像,计算所述多个三维单元结构在空间中的相邻关系,所述相邻关系由所述多个三维单元结构的三个垂直方向的二维截面在所述二维纹理图像上的相邻关系推导得到;S3、根据所述多个三维单元结构在空间中的相邻关系,在空间中依次放置所述多个三维单元结构,当所有三维单元结构放置完毕后,对所有三维单元结构的位置进行调整并对其形状进行放缩;S4、合成各三维单元结构之间的介质,得到最终的体纹理。
申请公布号 CN102298790B 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN201110264363.2 申请日期 2011.09.07
申请人 清华大学 发明人 胡事民;杜松沛
分类号 G06T15/04(2011.01)I 主分类号 G06T15/04(2011.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹
主权项 一种基于单元结构的体纹理合成方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、分析二维纹理图像,得到三维单元结构的二维截面,使用空间中三个垂直方向的二维截面来构造多个三维单元结构;S2、分析所述二维纹理图像,计算所述多个三维单元结构在空间中的相邻关系,所述相邻关系由所述多个三维单元结构的三个垂直方向的二维截面在所述二维纹理图像上的相邻关系推导得到;S3、根据所述多个三维单元结构在空间中的相邻关系,在空间中依次放置所述多个三维单元结构,当所有三维单元结构放置完毕后,对所有三维单元结构的位置进行调整并对其形状进行放缩;S4、合成各三维单元结构之间的介质,得到最终的体纹理;步骤S1具体为:分析二维纹理图像,提取出二维纹理图像中的一个单元结构,此单元结构被视为所要构造的一个三维单元结构的二维截面,将空间中三个垂直方向的二维截面之一视为基础面,另两个二维截面同时围绕此基础面的垂线进行旋转,在空间中扫过的区域被视为三维单元结构的内部,从而构造出一个三维单元结构;步骤S3中所述调整的方法为:假定在所有三维单元结构之间存在与距离的平方成反比的斥力关系,使用迭代的方法根据斥力的大小和方向,移动三维单元结构,使每个三维单元结构向其所受到的斥力方向移动。
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