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<p>플라즈마 프로세싱 챔버에서 사용하기 위한 커버 링의 실시예가 제공된다. 일 실시예에서, 플라즈마 프로세싱 챔버에서 사용하기 위한 커버링이 이트륨(Y) 함유 물질로 제조된 링-형상 본체를 포함한다. 상기 본체는 내측 위치결정 링 및 외측 위치결정 링을 가지는 하부 표면을 포함한다. 상기 내측 위치결정 링은 상기 본체로부터 상기 외측 위치결정 링 보다 더 멀리 연장한다. 상기 본체는 실질적으로 수평인 랜드에 의해서 분리되는 메인 벽 및 제 2 벽을 구비하는 내측 직경 벽을 포함한다. 상기 본체는 또한 정점에서 내측의 경사진 표면과 만나는 외측의 경사진 상부 표면을 가지는 상부 표면을 포함한다. 상기 내측의 경사진 표면은 상기 본체의 중심선에 대해서 수직인 라인과 약 70 도 미만의 각도를 형성한다.</p> |
