发明名称 |
用于离子植入均匀度的离子束扫描控制方法及系统 |
摘要 |
本发明的实施例是关于一种用于调整被扫描离子射束的带状射束通量的方法。于此方法中,会以一扫描速率来扫描离子射束,而且会在扫描该离子射束时来测量多个动态射束轮廓。经修正的扫描速率会依据该被扫描离子射束的该多个经测量动态射束轮廓而被算出。该离子射束会以该经校正的扫描速率来扫描,以便产生经修正的带状离子射束。本发明还揭示其它方法与系统。 |
申请公布号 |
CN101421814B |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN200780013079.X |
申请日期 |
2007.04.10 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
维克托·本维尼斯特;爱德华·艾斯纳;波·范德贝里 |
分类号 |
H01J37/304(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I;G21K5/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/304(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种测量带状离子射束的通量的方法,包括步骤:以一扫描速率来扫描离子射束;提供一种轮廓仪,所述轮廓仪用于通过在一连串离散测量点处测量离子射束的电流密度,在扫描该离子射束时来测量多个射束电流信号;运用该多个射束电流信号来产生多个动态射束轮廓,其中,该动态射束轮廓代表该带状离子射束的通量,且通过经由扫描波形来让该多个射束电流信号与该多个动态射束轮廓产生关联以运用该多个射束电流信号来产生多个动态射束轮廓。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |