Method of correcting cd uniformity in photomask and method of fabricating the photomask using the same
摘要
<p>본 발명의 포토마스크의 시디 균일도(CD uniformity) 보정방법은, 투광기판 위에 패턴들이 배치된 포토마스크의 패턴들에 대한 시디를 측정하는 단계와, 측정된 시디에 따라 포토마스크의 영역을 시디 오버 영역 및 시디 언더 영역으로 구분하는 단계와, 그리고 시디 오버 영역 내의 패턴들에 대한 선택적 산화공정을 수행하여 시디 오버 영역 내의 패턴들의 시디를 증가시키는 단계를 포함한다.</p>
