发明名称 |
等离子体损伤程度的检测方法 |
摘要 |
一种等离子体损伤程度的检测方法,包括:提供一批芯片;提供所述一批芯片阈值电压漂移量的上限值;测试所述一批芯片的漏电流,获得所述漏电流分布;从所述一批芯片中抽取部分芯片,测试所述部分芯片的阈值电压,获得阈值电压漂移量及其分布;根据所述阈值电压漂移量和所述上限值,确定所述部分芯片的合格率;应用所述部分芯片合格率于所述一批芯片,建立所述一批芯片的漏电流标准值;根据所述一批芯片的漏电流标准值,检测所述一批芯片的等离子体损伤程度。本发明方法可以降低检测成本,提高检测效率,实现在线检测,同时不会对芯片造成损伤。 |
申请公布号 |
CN102044458B |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN200910196932.7 |
申请日期 |
2009.10.09 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
发明人 |
赵永;江顺旺;郭强;简维廷 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;G01R19/00(2006.01)I;G01R19/165(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
一种等离子体损伤程度的检测方法,包括:提供一批芯片;提供所述一批芯片阈值电压漂移量的上限值;测试所述一批芯片的漏电流,获得所述漏电流分布;从所述一批芯片中抽取部分芯片,测试所述部分芯片的阈值电压,获得阈值电压漂移量及其分布;根据所述阈值电压漂移量和所述上限值,确定所述部分芯片的合格率;应用所述部分芯片合格率于所述一批芯片,建立所述一批芯片的漏电流标准值;根据所述一批芯片的漏电流标准值,检测所述一批芯片的等离子体损伤程度。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |