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发明名称 FORMATION OF A SLOT IN A SILICON SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP2186120(A4) 申请公布日期 2012.12.26
申请号 EP20080797152 申请日期 2008.08.04
申请人 HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. 发明人 KOMMERA, SWAROOP K.;BHOWMIK, SIDDHARTHA;ORAM, RICHARD, J.;RAMAMOORTHI, SRIRAM;BRAUN, DAVID, M.
分类号 B41J2/16;B81C1/00 主分类号 B41J2/16
代理机构 代理人
主权项
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