发明名称 投影光学系统及具备它的投影机
摘要 本发明提供平衡地提高光的利用效率的投影光学系统及嵌有其的投影机。物体侧透镜组20b在液晶面板18G(18R,18B)的纵向和横向具有不同放大率,因此,即使作为投影光学系统20的全系统,在纵横向具有不同焦距,纵横向的放大倍率也成为不同,液晶面板18G(18R,18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可以形成为不同。即,通过本投影光学系统20,可进行宽高比即横纵比的变换。此时,光圈70和物体侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式,因此,在纵向和横向的双方可以确保一定以上的远心性。
申请公布号 CN102841434A 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN201210212611.3 申请日期 2012.06.21
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 大谷信;守国荣时
分类号 G02B13/08(2006.01)I;G02B13/12(2006.01)I;G02B27/18(2006.01)I;G03B21/00(2006.01)I 主分类号 G02B13/08(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 刘瑞东;陈海红
主权项 一种投影光学系统,其特征在于,在被投影面上放大投影图像时,光调制元件的图像的横纵比和在上述被投影面投影的图像的横纵比设为不同,具有限制光束通过的光圈,在从上述光调制元件到上述光圈为止之间配置的物体侧透镜组,在上述光调制元件的纵向和横向具有不同的放大率,上述光圈和上述物体侧透镜组的上述被投影面侧的最端面的距离设为p,上述物体侧透镜组的横截面中,上述被投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离设为FFPx,上述物体侧透镜组的纵截面中,上述被投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离设为FFPy,FFPx<FFPy时,FFPx<p<FFPy,FFPy<FFPx时,FFPy<p<FFPx。
地址 日本东京都