发明名称 绝缘栅双极晶体管及制作方法
摘要 本发明公开了一种绝缘栅双极晶体管,在其P阱中形成有沟槽或孔,在沟槽或孔的底部的形成有P+连接层,P+连接层位于发射区的底部;在沟槽或孔上部形成有发射极引线孔,发射极引线孔的宽度大于沟槽或孔的宽度,在沟槽或孔和发射极引线孔中填充有金属并引出发射极。本发明还公开了一种绝缘栅双极晶体管的制造方法,包括:在形成栅和P阱后,在P阱上进行光刻和硅刻蚀形成沟槽或孔,在沟槽或孔底部进行硼离子注入、形成发射区,在沟槽或孔中填入金属以及形成金属电极的步骤。本发明能降低发射极和P阱间的寄生电阻、抑制擎柱效应。
申请公布号 CN102842608A 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN201110165393.8 申请日期 2011.06.20
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 彭虎;张帅
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 丁纪铁
主权项 一种绝缘栅双极晶体管,包括:集电区,由形成于硅衬底底部的P型层组成,从所述硅衬底的背面引出集电极;漂移区,由依次形成于所述集电区上的第一N+层和第一N‑层组成,所述第一N+层的N型杂质浓度大于所述第一N‑层的N型杂质浓度;P阱,形成于所述第一N‑层中;发射区,由形成于所述P阱上部的第二N+层组成,所述P阱将所述发射区和所述漂移区隔开;栅极,覆盖部分所述P阱,被所述栅极覆盖的所述P阱为沟道区,所述沟道区连接所述P阱两侧的所述漂移区和所述发射区;其特征在于:在所述P阱中形成有沟槽或孔,在所述沟槽或孔的底部的所述P阱中形成有P+连接层,所述P+连接层位于所述发射区的底部;在所述沟槽或孔上部形成有发射极引线孔,所述发射极引线孔的宽度大于所述沟槽或孔的宽度,在所述沟槽或孔和所述发射极引线孔中填充有金属并引出发射极。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号