| 发明名称 | 用湿法可显影填充材料实现高台阶表面图形曝光的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用湿法可显影填充材料实现高台阶表面图形曝光的方法，包括：1)高台阶表面图形曝光前，以湿法可显影填充材料填充凸凹表面，该填充材料涂覆后依靠显影移除表面多余的填充材料；2)进行抗反射层的涂覆，光刻胶涂覆，进行光刻，刻蚀，以刻蚀掉待刻蚀衬底。本发明不仅可以达到凸凹表面平坦化的目的，并且实施简单、操作性强、效果良好、应用广泛。 | ||
| 申请公布号 | CN102841514A | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201110172446.9 | 申请日期 | 2011.06.23 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 苏波 |
| 分类号 | G03F7/30(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 高月红 |
| 主权项 | 一种用湿法可显影填充材料实现高台阶表面图形曝光的方法，包括：(1)高台阶表面图形曝光前，以湿法可显影填充材料填充凸凹表面，该填充材料涂覆后依靠显影移除表面多余的湿法可显影填充材料；(2)然后再进行抗反射层的涂覆，光刻胶涂覆，进行光刻，刻蚀，以刻蚀掉待刻蚀衬底。 | ||
| 地址 | 201206 上海市浦东新区川桥路1188号 | ||