衬底处理装置和衬底处理方法

摘要

本发明提供了一种衬底处理装置和衬底处理方法，所述装置包括第一负载腔、第一阀门和处理腔，所述第一阀门设置在所述第一负载腔和所述处理腔之间，用于连接所述第一负载腔和所述处理腔，所述衬底处理装置还包括气压调节单元，以使得所述第一阀门打开时，所述第一负载腔的气压大于所述处理腔的气压。本发明在基板传送的过程中，通过控制第一负载腔和处理腔的气压大小，使得处理腔中的气体不会进入第一负载腔，这样就不会在第一负载腔中的器件表面沉积薄膜，从而延长了第一负载腔的使用寿命，降低了第一负载腔的维护成本。

主权项

一种衬底处理装置，包括第一负载腔、第一阀门和处理腔，所述第一阀门设置在所述第一负载腔和所述处理腔之间，用于连接所述第一负载腔和所述处理腔，其特征在于，所述衬底处理装置还包括第一气压调节单元，以使得所述第一阀门打开时，所述第一负载腔的气压大于所述处理腔的气压。