发明名称 |
一种非接触IC卡的制作工艺 |
摘要 |
本发明提供了一种非接触IC卡的制作工艺,包括:在基材上蚀刻天线线圈,并将所述天线线圈的出线端与芯片模块相连形成电子标签inlay;将所述电子标签inlay内侧和/或外侧多余的基材挖空,并在所述挖空区域填充制卡材料,与上下两层制卡材料封装成成IC卡inlay;对所述IC卡inlay进行封装形成外封装层。本发明能够提高IC卡inlay各层间的粘接力,从而制作出符合ISO剥离强度标准的非接触IC卡。 |
申请公布号 |
CN101944188B |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN200910088717.5 |
申请日期 |
2009.07.08 |
申请人 |
北京中安特科技有限公司 |
发明人 |
王永捷;刘健康 |
分类号 |
G06K19/07(2006.01)I;C08L27/06(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)I |
主分类号 |
G06K19/07(2006.01)I |
代理机构 |
北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 |
代理人 |
苏培华 |
主权项 |
一种非接触IC卡的制作工艺,其特征在于,包括:在基材上蚀刻天线线圈,并将所述天线线圈的出线端与芯片模块相连形成电子标签inlay;将所述电子标签inlay内侧和/或外侧多余的基材挖空,并在所述挖空区域填充制卡材料,与上下两层制卡材料封装成IC卡inlay,所述填充的制卡材料与上下两层制卡材料相同;对所述IC卡inlay进行封装形成外封装层。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区荣昌东街甲1号 |