发明名称 激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置
摘要 本实用新型提供一种能够实现在垂直向上钻孔时人在地面操作,无需高空作业,且准确定位,保证钻孔的垂直度的激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置。它包括支撑架,支撑架中间固定有加长杆,加长杆上端连接电钻固定装置,中间标有刻度,尾部设置成扁圆形,所述的支撑架沿铅垂方向分别同轴设置有第一定向套筒和第二定向套筒,加长杆下端穿过两个套筒,所述的支撑架上还设有一个推动加长杆上移的杠杆操纵机构。此装置无需高空作业,提高钻孔作业的安全性;可收缩的支撑架设计,方便装置的搬运;可对钻孔精确定位,保证钻孔的垂直度,确保钻孔质量,并可方便地控制钻孔深度。
申请公布号 CN202622054U 申请公布日期 2012.12.26
申请号 CN201120532763.2 申请日期 2011.12.19
申请人 中国一冶集团有限公司 发明人 郑运洪;李和平;李德家
分类号 B23D45/14(2006.01)I;B23D47/00(2006.01)I 主分类号 B23D45/14(2006.01)I
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人 唐万荣
主权项 激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置,其特征在于:它包括支撑架,支撑架中间固定有加长杆,加长杆上端连接电钻固定装置,中间标有刻度,尾部设置成扁圆形,所述的支撑架中央沿铅垂方向分别同轴设置有第一定向套筒和第二定向套筒,加长杆下端穿过两个套筒,所述的支撑架上还设有一个推动加长杆上移的杠杆操纵机构。
地址 430081 湖北省武汉市青山区工业大道3号