摘要 |
FONTE DE ÍONS COM REBAIXO NO ELETRODO. A presente invenção refere-se a uma fonte de ions capaz de gerar e/ou emitir um feixe iônico que pode ser usado para depositar uma camada em um substrato ou para executar outras funções. A fonte de íons inclui pelo menos um ânodo e pelo menos um catodo. Em certas concretizações exemplificativas, o ânodo pode ter um rebaixo formado no mesmo no qual podem ser acelerados os íons a serem incluídos no feixe iônico. As paredes de rebaixo podem opcionalmente ser isoladas usando, por exemplo, cerâmica. Um ou mais orifícios podem ser providos para permitir que um suprimento de gás flua para o rebaixo, esses orifícios podendo ser opcionalmente de gás flua para o rebaixo, esses orifícios podendo ser opcionalmente afunilados de tal modo que eles se estreitem na direção do rebaixo. Desse modo, certas concretizações exemplificativas produzem uma fonte de íons apresentando uma maior eficiência de energia (por exemplo, apresentando uma maior energia de íon).
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