| 摘要 |
<p>본 발명은 단일 챔버 내의 3개의 타겟과, 독립적으로 회전되고 구멍이 형성된 셔터판을 가지는 이중 회전 셔터 기구를 구비하는 다원 스퍼터링 장치의 이중 셔터 제어 방법으로서, 제1 셔터판 및 제2 셔터판의 구멍의 조합으로 타겟을 선택하고, 선택된 타겟에 대하여 방전을 계속하면서 사전 스퍼터링 공정과 메인 스퍼터링 공정을 행하여 기판에 막을 퇴적시키는 단계를 포함하여, 셔터판에 부착되는 타겟 물질 등에 기인하여 타겟 사이에 크로스-콘테미네이션이 발생되는 것을 방지할 수 있다.</p> |
