发明名称 MULTI-GRAY SCALE PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FIRM TRANSISTOR
摘要 <p>다계조 포토마스크는, 투명 기판 상에 형성된, 노광광을 차광하는 차광막과, 상기 노광광을 일부 투과시키는 반투과막에 의해 구성된, 투광 영역, 차광 영역, 및 반투광 영역을 갖는 전사 패턴을 구비한다. 상기 반투과막은, 상기 노광광의 파장 영역에서 파장 의존성을 갖는 투과율을 갖고 있고, 또한, 상기 반투광 영역은, 상기 전사 패턴의 전사 시에 이용하는 노광기의 노광 광학 조건 하에서 상기 파장 의존성이 실질적으로 생기지 않는 투과율을 나타내는 치수를 갖는 영역을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101194151(B1) 申请公布日期 2012.12.24
申请号 KR20097015136 申请日期 2009.06.23
申请人 发明人
分类号 G03F1/54;H01L21/027 主分类号 G03F1/54
代理机构 代理人
主权项
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