固定支撑座及应用其之扩散阻隔元件支撑座结构

摘要

一种固定支撑座及应用其之扩散阻隔元件支撑座结构。固定支撑座设于化学气相沉积系统中，用以支撑扩散阻隔元件。固定支撑座包括中空柱体及突出承载座。中空柱体具有外侧面。突出承载座以径向突出于中空柱体之外侧面的方式设于中空柱体上，藉以提供沿中空柱体之径向而突出于中空柱体之外侧面的承载面积，以承载扩散阻隔元件。

主权项

一种固定支撑座，设于一化学气相沉积系统中，用以支撑一扩散阻隔元件，该固定支撑座包括：一中空柱体，具有一外侧面；以及一突出承载座，以径向突出于该中空柱体之该外侧面的方式设于该中空柱体上，藉以提供沿该中空柱体之径向而突出于该外侧面的一承载面积，以承载该扩散阻隔元件。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该中空柱体与该突出承载座系可分离地配置。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该中空柱体与该突出承载座系一体成型结构。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该中空柱体具有一缺口，该缺口从该中空柱体的一内侧面往该外侧面方向延伸，而形成该中空柱体之一承靠面，该突出承载座系一平板，且设于该中空柱体之该承靠面上。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该中空柱体具有一缺口，该缺口从该中空柱体的一内侧面往该外侧面方向延伸，而形成该中空柱体之一承靠侧壁，该突出承载座包括：一挟持部，挟设该承靠侧壁；以及一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面，该扩散阻隔元件设于该突出部上。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该突出承载座包括：一盖体，套设于该中空柱体的一顶端，且具有一贯孔，该贯孔露出该中空柱体之中空部；以及一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面，该扩散阻隔元件设于该突出部上。如申请专利范围第6项所述之固定支撑座，其中该盖体包括：一止挡部，自该盖体之内壁面往该贯孔的中间区域突出，用以阻挡该中空柱体突出于该盖体。如申请专利范围第6项所述之固定支撑座，其中该盖体与该突出部系一体成型结构。如申请专利范围第1项所述之固定支撑座，其中该突出承载座包括：一盖体，套设于该中空柱体的一顶端；一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面，该扩散阻隔元件设于该突出部上；以及一贯孔，通过该盖体及该突出部，以露出该中空柱体之中空部。一种化学气相沉积之扩散阻隔元件支撑座结构，包括：一支撑架外壳；以及复数个固定支撑座，设于该支撑架外壳内，且各该固定支撑座包括：一中空柱体，具有一外侧面；及一突出承载座，以径向突出于该中空柱体之该外侧面的方式设于该中空柱体上，藉以提供沿该中空柱体之径向而突出于该外侧面的一承载面积，以承载一扩散阻隔元件。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该中空柱体与该突出承载座系可分离地配置。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该中空柱体与该突出承载座系一体成型结构。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该中空柱体具有一缺口，该缺口从该中空柱体的一内侧面往该外侧面方向延伸，而形成该中空柱体之一承靠面，该突出承载座系一平板，且设于该中空柱体之该承靠面上。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该中空柱体具有一缺口，该缺口从该中空柱体的一内侧面往该外侧面方向延伸，而形成该中空柱体之一承靠侧壁，该突出承载座包括：一挟持部，挟设于该承靠侧壁；以及一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面方向。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该突出承载座包括：一盖体，套设于该中空柱体的一顶端，且具有一贯孔，该贯孔露出该中空柱体之中空部；以及一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面，该扩散阻隔元件设于该突出部上。如申请专利范围第15项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该盖体包括：一止挡部，自该盖体之内壁面往该贯孔的中间区域突出，用以阻挡该中空柱体突出于该盖体。如申请专利范围第15项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该盖体与该突出部系一体成型结构。如申请专利范围第10项所述之扩散阻隔元件支撑座结构，其中该突出承载座包括：一盖体，套设于该中空柱体的一顶端；一突出部，沿该中空柱体之径向突出于该外侧面，该扩散阻隔元件设于该突出部上；以及一贯孔，通过该盖体及该突出部，以露出该中空柱体之中空部。