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一种自走式清洁装置之回充站构造，包括：一机体内设有充电电路及控制元件，并可自机体发射出讯号，该讯号可供自走式清洁装置接收，以进行向机体移靠的动作；机体上设有一容室，其具有一开口，容室深度可供自走式清洁装置的遥控器置于其中。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该机体设于一底座上。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该底座上设有二相隔适当间距的导电座。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该底座前端及二导电座间设有凹设的靠槽。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该机体立设于所述底座后侧。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该机体与底座形成一体成型。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该机体与底座分开成型而嵌设结合成一体。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该自机体发射出的可供自走式清洁装置接收讯号系自机体前侧发射出者。如申请专利范围第2项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该底座之高度低矮而可供自走式清洁装置移至其上方，自走式清洁装置的底部并可覆于所述二相隔适当间距的导电座上方。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该容室设于机体的后侧。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该容室形成狭长之扁设状态。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该容室深度恰可供遥控器置于其中时，遥控器的上端面与机体顶缘约略平齐。如申请专利范围第1项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该容室靠机体后侧机壳部份形成相对应的扇形遮面。如申请专利范围第13项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该遮面低于机体顶缘一段适间距，使容室与机体外部相通。如申请专利范围第14项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该遮面并在中央处形成一镂设空间使外部可与容室相通。如申请专利范围第15项所述自走式清洁装置之回充站构造，其中，该镂设空间底端往机体下方延伸一段凹设的模沟。 |
