发明名称 液面高度感测装置
摘要 一种液面高度感测装置,包含:一载体、一摆臂、一磁性体、一电路板以及多数霍尔元件。摆臂具有枢接端和受液面带动的摆动端,枢接端枢接于载体;磁性体设置于摆臂的枢接端与摆动端之间且随摆臂摆动;电路板设置于载体;该些霍尔元件电性配置于电路板上,磁性体相邻于该些霍尔元件,该些霍尔元件感应该随摆臂摆动之磁性体的磁场强度变化。
申请公布号 TWM443848 申请公布日期 2012.12.21
申请号 TW101213532 申请日期 2012.07.13
申请人 李道庆 发明人 李道庆
分类号 G01F23/00 主分类号 G01F23/00
代理机构 代理人 蔺超群 台北市大安区罗斯福路2段95号25楼
主权项 一种液面高度感测装置,包含:一载体;一摆臂,具有一枢接端和一受液面带动的摆动端,该摆臂的枢接端系枢接于该载体;一磁性体,设置于该摆臂的枢接端与摆动端之间且随摆臂摆动;一电路板,设置于该载体;以及多数霍尔元件,电性配置于该电路板上,该磁性体系相邻于该些霍尔元件,该些霍尔元件感应该随摆臂摆动之磁性体的磁场强度变化。如申请专利范围第1项所述之液面高度感测装置,其中该随摆臂摆动的磁性体系在该电路板上对应出一摆动路线,该些霍尔元件系依据该摆动路线而布设于该电路板上。如申请专利范围第2项所述之液面高度感测装置,其中该些霍尔元件系布设于该电路板之该摆动路线上。如申请专利范围第2项所述之液面高度感测装置,其中该摆动路线系具有其弯曲弧度,该些霍尔元件系布设于该电路板之该摆动路线的上方处且仍保有该弯曲弧度。如申请专利范围第2项所述之液面高度感测装置,其中该摆动路线系具有其弯曲弧度,该些霍尔元件系布设于该电路板之该摆动路线的下方处且仍保有该弯曲弧度。如申请专利范围第1项所述之液面高度感测装置,其中该摆臂的枢接端系枢接于该载体的偏心位置。如申请专利范围第1项所述之液面高度感测装置,其中该摆臂系具有一定位件,该定位件系固定于该枢接端与该摆动端之间,该磁性体则设置于该定位件且相邻于该些霍尔元件。如申请专利范围第7项所述之液面高度感测装置,系进一步包含一盖体,该盖体系对合于该载体,该定位件系凸设有至少一凸柱,该盖体开设有与该凸柱相对应的导槽,该凸柱系伸入于该导槽内而受到导引。如申请专利范围第1项所述之液面高度感测装置,其中该摆臂的摆动端系连接有一浮球。
地址 新北市汐止区民族六街7巷19号