| 主权项 |
一种无硷玻璃基板之制造方法，其系利用浮式法来制造无硷玻璃基板者；其具备：成形步骤，将熔融玻璃于熔融锡上成形为玻璃基板；以及徐冷步骤，使藉由上述成形步骤而成形之上述玻璃基板徐冷；且具备：第1供给步骤，向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附含有硷金属之无机物质；以及第2供给步骤，于上述第1供给步骤之后，向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附SO2气体。如请求项1之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第1供给步骤系于上述成形步骤与上述徐冷步骤之间实施。如请求项1之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第1供给步骤系于上述玻璃基板之玻璃转移点±100℃之范围的温度下实施。如请求项1之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第1供给步骤系于600~800℃下实施。如请求项1至4中任一项之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第2供给步骤系于上述成形步骤与上述徐冷步骤之间实施。如请求项1至4中任一项之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第2供给步骤系于上述玻璃基板之玻璃转移点±100℃之范围的温度下实施。如请求项1至4中任一项之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述第2供给步骤系于600~800℃下实施。一种无硷玻璃基板之制造方法，其系利用浮式法来制造无硷玻璃基板者；其具备：成形步骤，将熔融玻璃于熔融锡上成形为玻璃基板；且具备：第1供给步骤，于600~800℃下向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附含有硷金属之无机物质；以及第2供给步骤，于上述第1供给步骤之后，于600~800℃下向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附SO2气体。如请求项1至4及8中任一项之无硷玻璃基板之制造方法，其中进而具备去除上述保护膜之洗净步骤。如请求项1至4及8中任一项之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述含有硷金属之无机物质含有钠及硼。如请求项10之无硷玻璃基板之制造方法，其中上述含有硷金属之无机物质为四硼酸钠。一种无硷玻璃基板，其系利用请求项10或11之制造方法而制造者。一种无硷玻璃基板，其系利用请求项10或11之制造方法而制造者，上述玻璃基板以氧化物为基准且以质量百分率表示，含有：SiO2：30~85%，Al2O3：0~35%，B2O3：0~35%，MgO：0~35%，CaO：0~35%，SrO：0~35%，BaO：0~35%，硷金属成分：0.5%以下，上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面之平均硼浓度为4~10原子%，且硼向上述玻璃基板内部之扩散深度为5 nm以上。 |
