感光性树脂组成物

摘要

本发明之课题在于提供一种感光性树脂组成物，其能兼顾膜表面白浊之抑制与残膜率降低之抑制。;解决问题之技术手段系一种感光性树脂组成物，其系由含有硷可溶性树脂、具有醌二叠氮基之感光剂及硬化剂所形成的，其中硷可溶性树脂为丙烯酸系树脂，硬化剂为含有环氧基之硬化剂；及，一种平面显示器或半导体元件，其组成具备：感光性树脂组成物，其进一步含有熔点为20℃以下、数个羧基之一部分经高级醇所酯化的聚羧酸酯化合物所形成的；及使用此感光性树脂组成物所构成的平坦化膜或层间绝缘膜。该聚羧酸酯化合物较宜为由脂肪族不饱和二羧酸所形成的。

主权项

一种感光性树脂组成物，其系包含硷可溶性丙烯酸系树脂、具有醌二叠氮基之感光剂与具有环氧基之硬化剂所形成的感光性树脂组成物，其特征为：该感光性树脂组成物系进一步包含熔点为20℃以下、数个羧基之一部分经含有具有碳数3~16之直链或分枝链的烷基、烯基、炔基之醇所酯化的聚羧酸酯化合物所形成。如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物，其中该感光剂为下列通式(I)或(II)所表示之酚性化合物与萘醌二叠氮化合物的反应生成物：@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!(式中，R1、R2、R3与R4分别表示独立的H或C1-C2之烷基，R5与R6分别表示独立的C1-C2之烷基)；@sIMGTIF!d10004.TIF@eIMG!(式中，R7、R8、R9、R10、R11、R12与R13分别表示独立的H或C1-C4之烷基或表示下式：@sIMGTIF!d10005.TIF@eIMG!R14为H或C1-C4之烷基，m与n分别为独立的0~2之整数，a、b、c、d、e、f、g与h为符合a+b@sIMGCHAR!d10022.TIF@eIMG!5、c+d@sIMGCHAR!d10023.TIF@eIMG!5、e+f@sIMGCHAR!d10025.TIF@eIMG!5、g+h@sIMGCHAR!d10024.TIF@eIMG!5的0~5之整数，i为0~2之整数)。如申请专利范围第2项之感光性树脂组成物，其中该感光性树脂组成物系进一步含有该通式(I)或(II)所表示之酚性化合物。如申请专利范围第1或2项之感光性树脂组成物，其中该聚羧酸酯化合物为下列通式(A)所表示者：(RbOCO)p-Ra-(COOH)q(A)(其中，Ra为可以被羟基、卤素、胺基或磺酸基所取代的烃基，Rb为烃基，p与q分别为1以上之整数)。如申请专利范围第1或2项之感光性树脂组成物，其中形成该聚羧酸酯化合物之聚羧酸为脂肪族不饱和二羧酸。一种平面显示器，其特征系具有藉由如申请专利范围第1至5项中任一项之感光性树脂组成物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜。一种半导体元件，其特征系具有藉由如申请专利范围第1至5项中任一项之感光性树脂组成物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜。一种耐热性薄膜之形成方法，其特征为：将如申请专利范围第1至5项中任一项之感光性树脂组成物溶液涂布于基板上之后利用预烘焙而使涂膜形成；曝光所得到的涂膜；利用硷性显像液，显像曝光后之涂膜而使图案形成；进一步全面曝光经显像所得到的图案；及进行后烘烤。