发明名称 研磨垫
摘要 一种具有研磨层的研磨垫,该研磨层具有特异性组合物,并且在30℃之储存弹性系数对在60℃之储存弹性系数的比率为2至15,在30℃之储存弹性系数对在90℃之储存弹性系数的比率为4至20,并且以聚胺基甲酸酯或聚胺基甲酸酯-尿素制成。此研磨垫抑制欲研磨之表面的刮伤,并且有效地将表面平坦化。具有含水溶性颗粒之研磨层的研磨垫可达到更高的移除速率。
申请公布号 TWI379853 申请公布日期 2012.12.21
申请号 TW094136056 申请日期 2005.10.14
申请人 JSR股份有限公司 发明人 樱井富士夫;河村知男;五十岚善则
分类号 C08J5/14 主分类号 C08J5/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种具有以聚胺基甲酸酯或聚胺基甲酸酯-尿素制成之研磨层的研磨垫,其中:该聚胺基甲酸酯或聚胺基甲酸酯-尿素包含异氰酸酯终端之胺基甲酸酯预聚物A及链延伸剂B之混合物的经固化反应产物,该链延伸剂B在分子中具有两或多个能够与异氰酸酯基团反应的活性含氢基团,并且满足下列条件"a"及"b":a.该链延伸剂由50至100重量%之具有数量平均分子量300或更低的链延伸剂及50至0重量%之具有数量平均分子量高于300的链延伸剂构成;b.该链延伸剂由20至100重量%之在分子中具有三或多个活性含氢基团的链延伸剂及80至0重量%之在分子中具有两个活性含氢基团的链延伸剂构成;并且该研磨垫在30℃之储存弹性系数对在60℃之储存弹性系数的比率为2至15,且该研磨垫在30℃之储存弹性系数对在90℃之储存弹性系数的比率为4至20。根据请求项1之研磨垫,其中该异氰酸酯终端之胺基甲酸酯预聚物A是藉着将聚异氰酸酯与在分子中具有两或多个OH基团且数量平均分子量为300至2,000之化合物Y反应而获得,异氰酸酯基团/OH基团的当量比率为2至5。根据请求项2之研磨垫,其中该链延伸剂B包含50至100重量%之数量平均分子量为250或更低的链延伸剂、30至100重量%之在分子中具有三或多个活性含氢基团的链延伸剂,用来制造异氰酸酯终端胺基甲酸酯预聚物A之在分子中具有两或多个OH基团化合物Y的数量平均分子量为400至1,500,且在分子中具有两或多个OH基团化合物Y之数量平均分子量对链延伸剂B之数量平均分子量的比率为3或更多。根据请求项1至3中任一项之研磨垫,其中该链延伸剂B是一种多元醇及/或多元胺。根据请求项1至3中任一项之研磨垫,其中该链延伸剂B是一种多元醇。根据请求项1至3中任一项之研磨垫,其中在30℃之储存弹性系数对在60℃之储存弹性系数的比率为3至10。根据请求项1至3中任一项之研磨垫,其中在30℃之储存弹性系数对在90℃之储存弹性系数的比率为5至15。根据请求项1至3中任一项之研磨垫,其中水溶性颗粒被分散在以聚胺基甲酸酯或聚胺基甲酸酯-尿素制成的研磨层中,以研磨层的100体积%为基础,份量为0.5至70体积%。根据请求项8之研磨垫,其中该研磨层是以先分散该水溶性颗粒在异氰酸酯终端之胺基甲酸酯预聚物A及/或链延伸剂B中,再将所有起始物质混合在一起,并且固化所得混合物而获得。根据请求项8之研磨垫,其中该研磨层是以分散该水溶性颗粒在异氰酸酯终端之胺基甲酸酯预聚物A中,再将链延伸剂B与分散液混合,并且固化所得混合物而获得。根据请求项8至10之研磨垫,其中该水溶性颗粒以具有至少一个官能基团是选自胺基团、环氧基团及恶唑@sIMGCHAR!d10002.TIF@eIMG!基团的偶合剂处理。
地址 日本