| 主权项 |
一种正型光阻材料，其特征系含有藉由酸之作用成为可溶于硷显像液的树脂成分(A)，及感应活性光线或辐射线而产生酸的化合物(B)，其中树脂成分(A)为具有下述一般式(1)表示之重复单位的高分子化合物，@sIMGTIF!d10054.TIF@eIMG!(式中，R1系分别独立表示氢原子、甲基或三氟甲基，R2系表示氢原子或CO2R4基，R4系表示可含有杂原子之碳数1~20之直链状、支链状或环状之一价烃基，m为1或2；n为1或2；含有R3之重复单位d系选自下述重复单位，@sIMGTIF!d10055.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10056.TIF@eIMG!a、b、c、d系分别表示各重复单位的存在比，a、b、c、d系超过0未达1之数，a+b+c+d=1)。一种图型之形成方法，其特征系含有：将申请专利范围第1项之光阻材料涂布于基板上的步骤；加热处理后，介由光罩以高能量线或电子线曝光的步骤；加热处理后，使用显像液进行显像的步骤。一种图型之形成方法，其系含有：将申请专利范围第1项之光阻材料涂布于基板上的步骤；加热处理后，介由光罩以高能量线或电子线曝光的步骤；加热处理后，使用显像液进行显像之步骤之形成图型的步骤中，将折射率1以上之液体介于光阻涂布膜与投影透镜之间，进行浸润式曝光。一种图型之形成方法，其系含有：将申请专利范围第1项之光阻材料涂布于基板上的步骤；加热处理后，介由光罩以高能量线或电子线曝光的步骤；加热处理后，使用显像液进行显像之步骤之形成图型的步骤中，在光阻涂布膜上再形成保护膜，将折射率1以上之液体介于该保护膜与投影透镜之间，进行浸润式曝光。 |
