| 主权项 |
一种防反射层合体，其为备有透光性基材，及形成于透光性基材上之低折射率层的防反射层合体，其中低折射率层具有1.45以下之折射率，前述低折射率层系由，平均粒径5 nm以上300 nm以下之经疏水化处理的微粒子及黏合剂所形成之第1层，与于该层上再形成仅使用前述黏合剂之第2层所形成，且前述低折射率层之最表面为平滑化。如申请专利范围第1项之防反射层合体，其中前述黏合剂为，含有1分子中具有3个以上以电离放射线硬化的官能基的单体。如申请专利范围第1项之防反射层合体，其中低折射率层最表面之5μm2平面领域中，10点平均粗细度(Rz)为100 nm以下，算术平均粗细度(Ra)为1 nm以上30 nm以下。如申请专利范围第1项之防反射层合体，其中前述透光性基材与前述低折射率层之间，另备有硬涂层、防静电层，及防眩层所成群所选择之一或二层以上之层。如申请专利范围第4项之防反射层合体，其中硬涂层之折射率为1.57以上1.70以下。如申请专利范围第4项之防反射层合体，其中硬涂层另含有防眩剂。如申请专利范围第4项之防反射层合体，其中前述透光性基材与前述低折射率层之间，备有前述硬涂层与前述防静电层，前述防静电层系形成于前述透光性基材与前述硬涂层之间，或前述硬涂层与前述低折射率层之间。如申请专利范围第4项之防反射层合体，其中前述透光性基材与前述低折射率层之间，备有前述硬涂层与前述防眩层，前述防眩层系形成于前述透光性基材与前述硬涂层之间。如申请专利范围第4项之防反射层合体，其中前述透光性基材与前述低折射率层之间，备有前述硬涂层与前述防眩层，前述低折射率层、前述硬涂层，与前述防眩层所成群中所选出之至少一层为含有防静电剂所形成者。如申请专利范围第1项之防反射层合体，其中前述黏合剂为含有1分子中具有3个以上经电离放射线而硬化之官能基，与具有热硬化性基的单体，前述以电离放射线硬化的官能基为由丙烯酸基、乙烯基，与烯丙基所成群中所选出之官能基，前述以热硬化的官能基为由烷氧基、羟基、羧基、胺基与环氧基所成群中所选出之官能基。如申请专利范围第10项之防反射层合体，其中前述以热硬化的官能基为羟基。如申请专利范围第1项之防反射层合体，其中前述第2层具有30 nm以下之膜厚度，且前述黏合剂具有1.65以下之折射率。 |
