平面显示器用玻璃基板之制造方法

摘要

具备有：以含有氢氟酸之水溶液，将平面显示器用之玻璃基板予以化学研磨之研磨工程(ST2)；检查在上述研磨工程被化学研磨之玻璃基板中，是否有最大值径为50μm~2000μm之凹部伤痕，抽出具有上述凹部伤痕之不良玻璃基板的检查工程(ST3)；针对在上述检查工程中被抽出之不良玻璃基板，于上述凹部伤痕涂布第一涂布剂之第一涂布工程(ST11)；针对完成第一涂布工程之玻璃基板，从上述凹部伤痕直到溢出涂布第二涂布剂的第二涂布工程(ST12)；使所涂布的第二涂布剂予以硬化之硬化工程(ST14)；和于上述硬化工程之后，仅除去从凹部伤痕隆起之第二涂布剂而予以平坦化之平坦化工程(ST16)。若藉由本发明，则可以以高成品率制造高品质之平面显示器用玻璃基板。

主权项

一种平面显示器用玻璃基板之制造方法，其特征为具备：将平面显示器用之玻璃基板，一面管理成凹部伤痕之最大直径为2000μm以下，一面以含有氢氟酸之水溶液施予化学研磨之研磨工程；检查在上述研磨工程被化学研磨之玻璃基板中，是否有最大值径为50μm~2000μm之凹部伤痕，抽出具有上述凹部伤痕之不良玻璃基板的检查工程；针对在上述检查工程中被抽出之不良玻璃基板，于上述凹部伤痕涂布第一涂布剂之第一涂布工程；针对完成上述第一涂布工程之玻璃基板，从上述凹部伤痕直到溢出涂布第二涂布剂的第二涂布工程；使所涂布的第二涂布剂予以硬化之硬化工程；及于上述硬化工程之后，仅除去从上述凹部伤痕隆起之第二涂布剂而予以平坦化之平坦化工程。如申请专利范围第1项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，又具备有在经过上述平坦化工程之玻璃基板上贴附偏光膜的贴附工程。如申请专利范围第1项或第2项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，上述玻璃基板为纵横设置有复数显示面板区域之贴合玻璃基板，上述贴合玻璃基板被切断分离成各显示面板区域之切断工程被设置于上述检查工程之前。如申请专利范围第1项或第2项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，于上述平坦化工程中，仅有第二涂布剂被机械性磨削。如申请专利范围第1项或第2项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，第一涂布剂为具有提升密接性之底漆，第二涂布剂为光硬化型之黏接剂。如申请专利范围第1项或第2项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，上述硬化工程是以透光性之被覆材覆盖第二涂布剂而实行。如申请专利范围第1项或第2项所记载之平面显示器用玻璃基板之制造方法，其中，上述第二涂布工程是被区分成下述工程而实行，针对完成第一涂布工程的玻璃基板，以不会从上述凹部伤痕溢出之程度，涂布第二涂布剂之预备涂布工程；和于上述第二涂布剂完全硬化之前，重复涂布第二涂布剂直到第二涂布剂从上述凹部伤痕溢出之重复涂布工程。