用于电子元件制造之双模机械臂系统、基板传送设备及方法，以及校准机械臂之方法

摘要

本发明提供电子装置之制造系统及方法。在某些实施态样中，提供一种具有双模式机械臂的系统，其配置在一系统部件内(例如，工厂介面或传送室)，并且适于以一第一模式及一第二模式操作。在该第一模式中，该机械臂可在系统的多个部件之间(例如，在一载体及一制程室之间，或是腔室与腔室之间)传送一基板，且在该第二模式中，该机械臂可执行一制程运动轨迹(例如，测量)。

主权项

一种电子装置制造系统，包含：一工厂介面，适于接收一基板载体；一机械臂，配置在该工厂介面内且适于以一第一模式及一第二模式操作，其中，在该第一模式中，该机械臂适于在该基板载体及一或多个工具之间传送一基板，其中，在该第二模式中，该机械臂适于执行一制程运动轨迹，且该制程运动轨迹为一预定路径而该基板沿该预定路径移动，同时一或多个运动依赖性制程于该基板上执行，该等运动依赖性制程系选自缺陷检视、薄膜特性研究、雷射退火、雷射剥蚀、雷射划线、电子束固化、紫外线固化、热固化、喷墨印刷、晶粒放置、晶粒登记、晶粒对准、晶粒制造、部件放置、部件登记、部件对准、部件制造、封装功能所构成的群组，以及其中，该机械臂之一或多个关节在该制程运动轨迹之一移动部分期间，系锁定以约束该机械臂仅作出与该运动依赖性制程相称之运动。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该工厂介面更包含基板处理设备，适用于在该机械臂执行该制程运动轨迹时与该机械臂并用。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该机械臂适于同时以该第一模式及该第二模式操作。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该制程运动轨迹为下列至少其中之一者：退火扫描轨迹、对准运动轨迹、薄膜特性研究运动轨迹、缺陷检视运动轨迹、固化运动轨迹、登记运动轨迹以及晶粒放置轨迹。一种电子装置制造系统，包含：一工厂介面，适于接收一基板载体；一机械臂，配置在该工厂介面内且适于以一第一模式及一第二模式操作，其中，在该第一模式中，该机械臂适于在该基板载体及一或多个工具之间传送一基板，且其中，在该第二模式中，该机械臂适于执行一缺陷检视制程运动轨迹，其中该缺陷检视制程运动轨迹为一预定路径而该基板沿该预定路径移动，同时一或多个运动依赖性制程于该基板上执行，其中该运动依赖性制程系缺陷检视，且其中该机械臂的作用如一平台，用于执行该基板上的缺陷检视；以及其中，该机械臂之一或多个关节在该缺陷检视制程运动轨迹之一移动部分期间，系锁定以约束该机械臂仅作出与该运动依赖性制程相称之运动；以及一缺陷检视感测器，配置在该工厂介面内，且适于在该机械臂以该第二模式操作时输出关于该基板之资讯。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该机械臂的作用如一平台，系藉由将该基板的运动范围限制在一水平平面中的曲线运动。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该机械臂的作用如一平台，系藉由锁定该机械臂之一或多个关节而约束该机械臂的运动而仅允许该基板在一直线水平运动以及绕该基板之一中心点的水平旋转运动中移动。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该机械臂的作用如一平台，系藉由将该基板的运动范围限制在直线水平运动、绕该基板之一中心点的水平旋转运动以及该基板之反转。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该机械臂的作用如一平台，系藉由将该基板的运动范围限制在直线水平运动、绕该基板之一中心点的水平旋转运动以及垂直运动。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该缺陷检视感测器包含下列至少其中之一者：一白光测量工具、一IMACRO测量工具以及一IMAP测量工具。如申请专利范围第10项所述之系统，其中位于该工厂介面内的该缺陷检视感测器是配置在下列至少其中之一者中：一装载埠框架、一狭缝阀、一工厂介面室以及该机械臂。如申请专利范围第5项所述之系统，更包含一校准基板，适于提供一已知回应给该缺陷检视感测器。一种基板传送设备，包含：一机械臂，配置在一工厂介面内且适于以一传送模式及一制程模式操作，其中，在该传送模式中，该机械臂适于在一基板载体及一或多个工具之间传送一基板，且其中，在该制程模式中，该机械臂适于执行一制程运动轨迹，其中该制程运动轨迹为一预定路径而该基板沿该预定路径移动，同时一或多个运动依赖性制程于该基板上执行，该等运动依赖性制程系选自缺陷检视、薄膜特性研究、雷射退火、雷射剥蚀、雷射划线、电子束固化、紫外线固化、热固化、喷墨印刷、晶粒放置、晶粒登记、晶粒对准、晶粒制造、部件放置、部件登记、部件对准、部件制造、封装功能所构成的群组，且该机械臂的作用如一平台，用以执行该基板上的一制程；以及其中，该机械臂之一或多个关节在该制程运动轨迹之一移动部分期间，系锁定以约束该机械臂仅作出与该运动依赖性制程相称之运动；以及一制程工具，配置在以该制程模式操作时该机械臂可及的范围内，并且适于当该机械臂以该制程模式操作时对该基板实施一制程。如申请专利范围第13项所述之设备，其中该机械臂适于以该制程模式操作同时进行该传送模式操作。一种用于制造一电子装置之方法，包含以下步骤：从一第一系统部件移除一基板，该第一系统部件系选自于由一工具、一基板载体及一工厂介面所构成的群组；沿着依据一制程运动轨迹之一预定路径而传送该基板至一第二系统部件，该第二系统部件系选自于由一工具、一工厂介面及一基板载体所构成的群组，同时一或多个运动依赖性制程于该基板上执行，该运动依赖性制程系选自缺陷检视、薄膜特性研究、雷射退火、雷射剥蚀、雷射划线、电子束固化、紫外线固化、热固化、喷墨印刷、晶粒放置、晶粒登记、晶粒对准、晶粒制造、部件放置、部件登记、部件对准、部件制造、封装功能所构成的群组；在该制程运动轨迹之一移动部分期间，锁定传送该基板之一机械臂之一或多个关节以约束该机械臂仅作出与该运动依赖性制程相称之运动；以及当该基板从该第一系统部件传送至该第二系统部件时，在该基板上执行测量。如申请专利范围第15项所述之方法，其中该第一系统部件是一工具，且该第二系统部件是一工具。如申请专利范围第15项所述之方法，其中该第一系统部件是一基板载体，且该第二系统部件是一工具。如申请专利范围第15项所述之方法，其中该第一系统部件是一工具，且该第二系统部件是一工厂介面。一种校准一机械臂之方法，包含以下步骤：校准用于传送基板的一机械臂；装载一缺陷检视校准基板在该机械臂上；在一缺陷检视运动轨迹之一移动部分期间，将该机械臂之一或多个关节锁定以约束该机械臂仅作出与一运动依赖性缺陷检视制程相称之运动，其中，该缺陷检视运动轨迹为一预定路径而该基板沿该预定路径移动，同时该运动依赖性缺陷检视制程于该基板上执行；以及校准用来执行缺陷检视的该机械臂。