| 主权项 |
一种可聚合组合物，包含：(a)至少一具式(I)之单体：@sIMGTIF!d10018.TIF@eIMG!其中，X1及X2系各自独立为H或C1-C4烷基；Y1、Y2、Y3及Y4系各自独立为H、C1-C4烷基或OH；及a及b系各自独立为选自0至5之整数；(b)一光起始剂，及(d)一具式(II)之丙烯酸酯单体：@sIMGTIF!d10019.TIF@eIMG!其中，R3系具2至6个碳原子之直链或支链烃基，其视情况经一或多个选自氧及硫之杂原子所间隔；及n为0至3之整数，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(I)单体之用量为至少1重量%及该式(II)单体之用量为1重量%至80重量%。如请求项1之组合物，其中X1、X2、Y1、Y2、Y3及Y4系各自独立为H或甲基；且a及b系各自独立为选自1至3之整数。如请求项1之组合物，其中该式(I)单体系具式(I1)：@sIMGTIF!d10020.TIF@eIMG!如请求项1之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(I)单体之用量为1重量%至50重量%。如请求项1之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(I)单体之用量为3重量%至25重量%。如请求项1之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(I)单体之用量为4重量%至20重量%。如请求项1之组合物，其中该光起始剂系选自以下群组：二苯甲酮、二苯乙醇酮、二苯乙二酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物及其组合。如请求项1之组合物，其中以该组合物之总重量计，该光起始剂之用量为0.1重量%至10重量%。如请求项1之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(II)单体之用量为8重量%至70重量%。如请求项1之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(II)单体之用量为12重量%至60重量%。如请求项1之组合物，进一步包含(d-1)选自由丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、2-(对-异丙苯基-苯氧基)-乙基丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯，及彼等之混合物所组成之群组之丙烯酸酯类单体。如请求项11之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该丙烯酸酯类单体之用量为1重量%至80重量%。如请求项1之组合物，进一步包含(c)一交联剂。如请求项13之组合物，该交联剂为(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯或其组合。如请求项13之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该交联剂之用量为1重量%至60重量%。如请求项13之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该交联剂之用量为10重量%至50重量%。如请求项13之组合物，其中以该可聚合组合物之总重量计，该交联剂之用量为25重量%至40重量%。如请求项1之组合物，进一步包含一添加剂，其系选自以下群组：滑剂、无机填料、流平剂、消泡剂、抗静电剂及其组合。如请求项16之组合物，其中该无机填料系选自以下群组：二氧化钛、二氧化矽、钛酸锶、氧化锌、氧化铝、硫酸钡、硫酸钙、碳酸钙、氧化锆及其组合。如请求项16之组合物，其中该无机填料之粒径为10奈米至350奈米。一种可聚合组合物，包含：(a)具式(I)之单体：@sIMGTIF!d10021.TIF@eIMG!其中，X1及X2系各自独立为H或甲基；Y1、Y2、Y3及Y4系各自独立为H或甲基；a及b系各自独立为选自1至3之整数；(b)一光起始剂，系选自以下群组：二苯甲酮、二苯乙醇酮、二苯乙二酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物及其组合；(c)一交联剂，系选自以下群组：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯及其组合，及(d)一具式(II1)之单体：@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!其中以该可聚合组合物之总重量计，该式(I)单体之用量为至少1重量%，该式(II1)单体之用量为1重量%至80重量%。如请求项21之组合物，其中该式(I)单体系具式(I1)：@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!一种光学膜，其包含由如请求项1或21之可聚合组合物所形成之涂层。如请求项23之光学膜，其中该涂层形成聚光结构。如请求项23之光学膜，其中该涂层之折射率高于1.53。如请求项23之光学膜，其中该涂层具有1.53至1.62之折射率。如请求项23之光学膜，其中该涂层之厚度为1微米至100微米。 |
