| 摘要 |
<p>본 발명은 진공 챔버에서 적어도 대략 원형상의 주변부를 가진 적어도 2개의 전극이 회전가능하게 장착되고, 일 공간 위치에 있는 전극은 가스 방전의 점화를 위해 작은 간격을 갖고 있고 도전성 액상 재료 저장소에 연결되어, 전극의 회전 중에 도전성 액상 재료의 액막이 전극의 원형 주변부 상에 형성될 수 있고, 전극에는 저장소를 통해 전류가 흐를 수 있는, 특히 EUV 방사 및/또는 소프트 X-레이 방사용 가스 방전원에 관한 것이다. 본 발명의 가스 방전원에서, 상기 전극이 연결 요소를 통해 상기 저장소에 연결되고, 이 연결에 따라 상기 전극과 상기 연결 요소 사이에서 각 전극의 원형 주변부의 일부 위에 간극이 형성되고, 상기 전극의 회전 중에, 상기 연결 요소에 형성된 적어도 하나의 공급 채널을 통해 상기 저장소로부터 상기 간극 내로 상기 도전성 액상 재료가 흘러 들어 올 수 있다.</p> |
