发明名称 |
Reflexionsmindernde Hartmaskenzusammensetzung und Verfahren zur Herstellungeines strukturierten Materials damit |
摘要 |
Eine reflexionsmindernde Hartmaskenzusammensetzungsschicht mit einem Polymer, das in seinem Rückgrat Si-O- und siliciumfreie anorganische Einheiten aufweist. Das Polymer enthält chromophore und transparente Molekülteile und eine Vernetzungskomponente. Die reflexionsmindernde Hartmaskenzusammensetzungsschicht wird in einem Verfahren zur Bildung eines strukturierten Materials auf einem Substrat verwendet.
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申请公布号 |
DE112010005304(T5) |
申请公布日期 |
2012.12.20 |
申请号 |
DE20101105304T |
申请日期 |
2010.10.22 |
申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
BURNS, SEAN D.;MEDEIROS, DAVID R.;PFEIFFER, DIRK |
分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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