一种载片托盘、托盘装置和结晶膜生长设备

摘要

本发明提供了一种用于结晶膜生长设备的载片托盘，在所述载片托盘的至少一个表面上形成有用于容纳基片的凹槽，并且对于每一个凹槽而言，其槽底到槽口的距离自凹槽中心向凹槽边缘逐渐减小。本发明还提供一种用于结晶膜生长设备的托盘装置，其包括多个本发明提供的上述载片托盘，并且相邻载片托盘之间具有一定间距。本发明还提供了一种结晶膜生长设备，其包括工艺腔室，在所述工艺腔室内设置有本发明提供的上述载片托盘和/或托盘装置，用于承载被加工基片。本发明提供的载片托盘、托盘装置和结晶膜生长设备，可生长厚度较均匀的薄膜，具有高的产品良率。

主权项

一种用于结晶膜生长设备的载片托盘，其特征在于，在所述载片托盘的至少一个表面上形成有用于容纳基片的凹槽，并且对于每一个凹槽而言，其槽底到槽口的距离自凹槽中心向凹槽边缘逐渐减小。