发明名称 |
基板清洗机台与基板清洗方法 |
摘要 |
一种基板清洗机台,包括一第一支持件、一第二支持件、一连续织物以及一喷嘴。第一支持件与第二支持件分别设置在一基板的一行进路径上,且基板适于沿行进路径依序通过第一支持件与第二支持件上方。连续织物适于沿着一进给方向前进,且进给方向与基板的一移动方向相反。第一支持件以及第二支持件承靠连续织物,以分别在行进路径上形成一第一清洁区以及一第二清洁区。喷嘴适于喷洒一清洗液于第一清洁区的连续织物上。本发明亦提出一种基板清洗方法。 |
申请公布号 |
CN101969022B |
申请公布日期 |
2012.12.19 |
申请号 |
CN201010257244.X |
申请日期 |
2010.08.12 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
赖志明;邵明良 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
郭蔚 |
主权项 |
一种基板清洗机台,包括:一第一支持件以及一第二支持件,分别设置在一基板的一行进路径上,且该基板适于沿该行进路径依序通过该第一支持件与该第二支持件上方;一连续织物,适于沿着一进给方向前进,该进给方向与该基板的一移动方向相反,且该第一支持件以及该第二支持件承靠该连续织物,以分别在该行进路径上形成一第一清洁区以及一第二清洁区;以及一喷嘴,适于喷洒一清洗液于该第一清洁区的该连续织物上。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 |