| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有水，研磨剂，氧化剂和两种或两种以上的非铁过渡元素金属盐。本发明的化学机械抛光液可显著提高钨的抛光速度。 | ||
| 申请公布号 | CN102834476A | 申请公布日期 | 2012.12.19 |
| 申请号 | CN201080045173.5 | 申请日期 | 2010.11.08 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋;俞昌 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||