发明名称 |
一种双内腔接触式n侧出光框架支撑结构面发射半导体激光器 |
摘要 |
一种双内腔接触式n侧出光框架支撑结构面发射半导体激光器及其制作方法,属于半导体激光器制造技术领域。相关的现有技术采用p型与n型电极均为内腔接触式的,但其电极只在p侧引入,以减少双侧DBR电阻。该技术存在的主要问题是,p型与n型电极开在同一侧,其电极不可能制备成封闭环形,由于是半环型,电流的分配不对称,注入载流子诱发光子形成的光场分布不均匀。本发明提出的激光器结构, p型与n型电极在器件两侧,形成双内腔接触式结构,使注入电流绕过p型DBR和n型DBR直接进入有源区;同时n侧采用框架支撑结构及其制作方法,解决了形成n型电极窗口的刻蚀过程中,器件结构连接强度不足所造成的有源区崩落问题。 |
申请公布号 |
CN102832537A |
申请公布日期 |
2012.12.19 |
申请号 |
CN201210341667.9 |
申请日期 |
2012.09.14 |
申请人 |
长春理工大学 |
发明人 |
赵英杰;刘学东;万灵敏;张建家;侯立峰;晏长岭;冯源;郝永芹;李占国;李特;赵博;戈红丽;赵宇斯;刘羽;金国烈;许鹏 |
分类号 |
H01S5/187(2006.01)I;H01S5/042(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/187(2006.01)I |
代理机构 |
长春市四环专利事务所 22103 |
代理人 |
刘玉仁 |
主权项 |
一种双内腔接触式n面出光框架支撑结构面发射半导体激光器,其特征在于,所述激光器包括:P型电极(1),p型DBR(2),p型欧姆接触层(3),氧化限制层(4),p型限制层(5),有源区(6),n型限制层(7),n型欧姆接触层(8),n型DBR(9),缓冲层(10),衬底(11),增透膜(12),n型电极(13),刻蚀区域(14),框架支撑结构(15)。 |
地址 |
130022 吉林省长春市卫星路7089号 |